A indústria global de semicondutores confirmou avanços operacionais decisivos com os primeiros testes estáveis de litografia ultravioleta extrema com alta abertura numérica (high-NA EUV).
Resolução de Circuitos e Eficiência
O equipamento permite imprimir circuitos de oito nanômetros em exposição única, simplificando as etapas de fabricação e melhorando o rendimento por lâmina de silício.
A distribuição de energia pela face posterior do chip comprovou redução relevante de resistência elétrica e dissipação térmica.
Padrão Aberto para Chiplets
Empresas de computação de alto desempenho formalizaram um padrão unificado de interconexão, acelerando o desenvolvimento de processadores modulares com respostas ultrarrápidas.
