La fabricación de microchips alcanzó un hito técnico relevante esta semana al reportarse los primeros rendimientos estables en escáneres de litografía ultravioleta extrema con alta apertura numérica (high-NA EUV).

Avances en Resolución y Alimentación Posterior

Estos sistemas permiten imprimir pistas de circuito de hasta ocho nanómetros en una sola exposición, eliminando procesos complejos de exposición múltiple que encarecían la producción en masa.

Además, se validó con éxito el suministro eléctrico desde la parte trasera del silicio, reduciendo la interferencia electromagnética y mejorando la disipación de calor en chips de alto rendimiento.

Interconexión Estandarizada

Un consorcio internacional acordó normas comunes de empaquetado para permitir que procesadores modulares de diferentes fabricantes interactúen con latencias inferiores a un nanosegundo.